两条产品线独立展示：SiC碳化硅材料与CMP抛光垫。按产品类别进入，避免规格和应用混淆。
覆盖成品衬底、光学片以及晶体生长所需的晶锭、籽晶和粉料。
4H晶型、氮掺杂，提供4 / 6 / 8 / 12英寸双面抛光衬底。
面向射频、光学窗口、激光与精密光学应用，支持规格确认与样品验证。
服务PVT长晶、材料研发与晶片加工，提供多种尺寸与纯度等级。
聚氨酯、无纺布及带绒毛结构无纺布抛光垫，按加工材料、抛光阶段、设备与目标指标选型。
发泡固化聚氨酯、封闭单元结构，耐磨、抛光效率高、变形小，可用于粗抛。
聚合物纤维结构，渗水性良好，可通过不同工艺获得不同微观结构，适用于精抛。
硬度较低、压缩比较大、弹性良好，有助于降低粗糙度并改善片内均匀性。
告诉我们尺寸、级别与数量，我们会尽快回复方案。
